M2M-GEKKO实时全聚焦相控阵探伤仪

m2m-gekko实时全聚焦相控阵探伤仪|上海如庆电子科技有限公司专业提供
m2m-gekko实时全聚焦相控阵探伤仪
m2m-gekko实时全聚焦相控阵探伤仪。的tfm技术是m2m研发的其中一项核心技术,它采用全矩阵捕捉法(fmc)对检测区域进行数据采集,在采用tfm算法实时对区域进行成像,使得超声检测在缺陷定量及定性上更加准确。
gekko可采用8×8面阵探头聚焦。而常规相控阵探伤仪常采用线阵探头,通过civa声场仿真我们可以观察到:线阵探头的声场分布不均,偏转效果不如面阵探头声场;且线阵探头副瓣比面阵探头声场更大,易出现杂波影响检测效果。
-探头匹配支持线性及二维面阵探头
-聚焦法则1600个相控阵法则
-扫查组多支持8个不同扫查组混合检测
-操作流程预置应用模块,参数配置向导,数据分析,报告生成
-实时成像a-扫,b-扫,c-扫,s-扫
-实时全聚焦成像(tfm)三维空间实时成像
-检测方法脉冲回波,tofd,收发分离,深度动态聚焦,基于civa的聚焦法则运算核心
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m2m-gekko实时全聚焦相控阵探伤仪
实时全聚焦成像技术tfm
tfm成像与传统相控阵扇扫成像的对比
常规相控阵扇扫成像,无法检测缺陷尺寸,无法检出0.2横孔,tfm成像可以清晰识别倾斜面前部0.2毫米小孔
实时全聚焦成像技术tfm是m2m研发的其中一项核心技术。它采用全矩阵捕捉法(fmc)对检测区域进行数据采集,在采用tfm算法实时对区域进行成像,使得超声检测在缺陷定量及定性上更加准确
64晶片同时激发在声场方面的优势
同时激发16个晶片的声场 同时激发64个晶片的声场
16个晶片远场效果,且能量低,焦点尺寸大分辨率低
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同时激发16个晶片的声场 同时激发64个晶片的声场
通过civa声场仿真我们可以观察到16晶片的声场分布不均,偏转效果不如64晶片声场,且16晶片副瓣比64晶片声场更大,出现杂波影响检测效果。
控制二维面阵探头的优势
64晶片同时激发模式还可以控制一个面阵探头(8×8),能同时激发16个晶片的设备无法有效控制面阵探头,使用此类探头能够对三维空间进行任意方向扫查,可以在同一探头位置检测到不同取向的缺陷。
m2m-gekko实时全聚焦相控阵探伤仪。的tfm技术是m2m研发的其中一项核心技术,它采用全矩阵捕捉法(fmc)对检测区域进行数据采集,在采用tfm算法实时对区域进行成像,使得超声检测在缺陷定量及定性上更加准确。
gekko可采用8×8面阵探头聚焦。而常规相控阵探伤仪常采用线阵探头,通过civa声场仿真我们可以观察到:线阵探头的声场分布不均,偏转效果不如面阵探头声场;且线阵探头副瓣比面阵探头声场更大,易出现杂波影响检测效果。
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-探头匹配支持线性及二维面阵探头
-聚焦法则1600个相控阵法则
-扫查组多支持8个不同扫查组混合检测
-操作流程预置应用模块,参数配置向导,数据分析,报告生成
-实时成像a-扫,b-扫,c-扫,s-扫
-实时全聚焦成像(tfm)三维空间实时成像
-检测方法脉冲回波,tofd,收发分离,深度动态聚焦,基于civa的聚焦法则运算核心
实时全聚焦成像技术tfm
tfm成像与传统相控阵扇扫成像的对比
常规相控阵扇扫成像,无法检测缺陷尺寸,无法检出0.2横孔,tfm成像可以清晰识别倾斜面前部0.2毫米小孔
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实时全聚焦成像技术tfm是m2m研发的其中一项核心技术。它采用全矩阵捕捉法(fmc)对检测区域进行数据采集,在采用tfm算法实时对区域进行成像,使得超声检测在缺陷定量及定性上更加准确
64晶片同时激发在声场方面的优势
同时激发16个晶片的声场 同时激发64个晶片的声场
16个晶片远场效果,且能量低,焦点尺寸大分辨率低
同时激发16个晶片的声场 同时激发64个晶片的声场
通过civa声场仿真我们可以观察到16晶片的声场分布不均,偏转效果不如64晶片声场,且16晶片副瓣比64晶片声场更大,出现杂波影响检测效果。
控制二维面阵探头的优势
64晶片同时激发模式还可以控制一个面阵探头(8×8),能同时激发16个晶片的设备无法有效控制面阵探头,使用此类探头能够对三维空间进行任意方向扫查,可以在同一探头位置检测到不同取向的缺陷。
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