超纯水工艺设计抛光段树脂

工业用水指工业生产过程中使用的生产用水及厂区内职工生活用水的总称,不同行业对工业用水水质要求是不同的,根据水质可分为原水、清水、软化水、脱盐水、纯水等。
原水是指未经过处理的水,即进入水处理各工序之前的水。
清水,是指原水经混凝、澄清、过滤等处理后的水。
软化水,是指将水中的ca²+、mg2+等离子的含量降低或去除至一定程度的水。水在软化过程中仅降低硬度,而总含盐量保持基本不变。
脱盐水,是指将水中易于去除的强电解质去除至一定程度的水。在除盐过程中亦除去了部分机械杂质和有机物质。其剩余含盐量一般在1~5mg/l,25℃时的电导率为1~10μs/cm。
纯水又称去离子水,是指将水中易于去除的强电解质去除之外,还将水中难以去除的硅酸及二氧化碳等弱电解质去除至一定程度的水。
25℃时纯水中的电导率一般为0.1~1μs/cm,剩余含盐量一般应在1mg/l以下。
超纯水又称高纯水,是指将导电介质几乎 除去,同时不离解的气体、胶体以及有机物质(包含细菌等)均去除至很低程度。超纯水的含盐量小于0.1mg/l,25℃时的电导率为0.1μs/cm以下。
工业用水的水质是保障产品质量、提高产能效率及安全生产的重要条件,随着科学技术突飞猛进的发展,半导体、石油化工、生物医药等相关产业产品品质和生产工艺不断升级,对生产过程中的水质要求也越来越高,很多场合都要使用超纯水。
超纯水工艺设计流程
超纯水工艺在系统设计上通常分为前段、中间段和后段三个部分。
前段(预处理段),是对原水进行前期处理,改善供水水质,使之达到反渗透进水要求,减少、延缓膜的污染、延长膜寿命。
前处理系统主要由砂滤、活性碳过滤器及2b3t(阳离子塔、脱气塔及阴离子交换塔)等设备构成,其处理对象主要是进水中的微生物、细菌、胶体、有机物、重金属离子、固体颗粒及游离氯等。
中间段(反渗透段),是整个纯水系统中非常重要的区段,起到承前启后的作用。其处理对象主要是水中有机物(如三卤甲烷中间体、胶体、悬浮物、微生物、细菌、藻类、霉类等)、热源、病毒等物质,流体经前三级预处理后的水经反渗透ro膜深层分离处理后,生产出纯净水进入纯水箱,脱盐率可达98%,根据具体情况可分一级和二级反渗透。
其系统设备通常由紫外线灯(uv)、板式换热器、保安过滤器、反渗透膜组(ro)、toc-uv、混床(sa/sc)、膜脱气(mdg)等设备构成。
后段(抛光段),一般用在工艺末端,用来更进一步提高产水水质。目前常使用edi(连续电脱盐水外理工艺),来替代传统的离子交换装置,生产出电阻率高达 18mω·cm 的超纯水。
从本质而言,纯水系统主要靠离子交换树脂、各种膜以及紫外线装置来达到出水水质的。
超纯水可以在以下领域使用:
(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。
(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。
(4)高压变电器的清洗等
tulsimer ® mb-106up为阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子tulsimer ® t-46li 及核子级强碱型阴离子 tulsimer ® a-33oh 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用,具有的交换容量及优越的物理特性。适合用于电子产业 ,生产半导体及映像管产业,实验室,激光,精仪器,医用行业等需要超纯水的行业,以及核电厂等使用。在 我们有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂。
tulsimer ®t-46 (阳)
tulsimer ®a-33 (阴)
型式(type)
强酸性阳离子交换树脂 (strong acid cation exchange resin)
强碱性阴离子交换树脂 (strong base anion exchange resin)
主体结构(matrix structure)
苯乙烯(cross linked polystyrene)
苯乙烯(cross linked polystyrene)
功能基 (functional group)
硫酸基(sulfonic acid)
4级胺(quaternary ammonium type i)
物理性貭(physical form)
球状颗粒(moist spherical beads)
球状颗粒(moist spherical beads)
离子型式(ionic form supplied)
氢(hydrogen)
氢氧(hydroxide)
粒径范围(u.s.mesh in wet)
16 to 50
16 to 50
粒度范围 (particle size)
0.3 to 1.2 mm
0.3 to 1.2 mm
微粒含量(fines content)
穿过us 50 mesh小于0.5% (less than
0.5% passing through 50 u.s.mesh)
穿过us 50 mesh小于0.5% (less than
0.5% passing through 50 u.s.mesh)
总交换容量
(total exch. capacity)
1.8 meq/ml minimum of
99% in hydrogen form
1.0 meq/ml minimum of 90% in hydroxide
form and less than 1% in chloride form
ph范围 (ph range)
0 to 14
0 to 14
允许温度 (temp. stability)
120°c
60°c
微粒含量(fines content)
穿过us 50 mesh小于0.5% (less than
0.5% passing through 50 u.s.mesh)
穿过us 50 mesh小于0.5% (less than
0.5% passing through 50 u.s.mesh)
总交换容量
(total exch. capacity)
1.8 meq/ml minimum of
99% in hydrogen form
1.0 meq/ml minimum of 90% in hydroxide
form and less than 1% in chloride form
ph范围 (ph range)
0 to 14
0 to 14
允许温度 (temp. stability)
120°c
60°c
溶解率 (solubility)
insoluble in all common solvents
insoluble in all common solvents
溶出有机物(organic leachable)
less than 0.2 mg kmno4
per ml of wet resin
less than 0.2 mg kmno4 per ml
of wet resin
密度backwash settled density
approx.750 gm/liter
approx.750 gm/liter
不纯物(impurities)
fe=50 ppm(max)
fe=50 ppm(max)
cu=50 ppm(max)
cu=50 ppm(max)
pb=50 ppm(max)
pb=50 ppm(max)
球粒强度(bead strength)
avg. not less than 300g/bead by chatillon test (astm standard)

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