AU靶溅射成膜装置MSP-mini介绍
au靶溅射成膜装置msp-mini介绍
采用反应射频磁控溅射法制备au复合薄膜,并对使用au靶共溅射、分步溅射方式以及在不同的衬底温度和ar/o2气体流量比下制备的样品进行x射线光电子能谱、x射线衍射和扫描电子显微镜分析,研究了主要工艺参数对复合薄膜表面成分和形貌的影响.结果表明,采用共溅射方式制备的复合薄膜中au元素的含量偏高,薄膜表面有团聚生长的au晶粒,而采用分步溅射法可以使复合薄膜中au元素的摩尔百分比下降到7.30％.采用分步溅射制备复合薄膜时,较高的衬底温度有助于mgo晶粒的生长,当衬底温度为500℃,通入ar气和o2气的流量分别为25和5ml/min时,mgo晶粒尺寸达到了30～40 nm;mo薄膜主要呈现出了(111)、(200)和(220)三种结晶取向,较高的ar/o2气体流量比有利于(200)晶向的形成,而较低的ar/o2气体流量比有利于(220)晶向的形成。
msp-mini是桌上sem观察·光学显微镜用离子溅射成膜装置。
●用一个按钮自动涂层。没有任何繁琐的操作。
●去除所有赘肉的高性价比机。我是msp-1s的弟弟。
●小型目标（φ30mm）。实现低运行成本。
●标准附带au靶。在桌上sem的预处理中发挥实力。
●可选靶ag膜具有良好的光泽，便于透明材料表面的光学显微镜观察。
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