多晶硅含氟废水除氟剂出水稳定、去除率更高
多晶硅是单质硅的一种形态，是银灰色、有金属色泽的晶体。它可以做成各种晶体管、太阳能电池、集成电路、电子计算机芯片以及红外探测器等，是半导体工业、电子信息产业、太阳能光伏电池产业重要的功能性材料。
在多晶硅的生产过程中，氢氟酸是不可少的化学原料，主要用于硅芯、成品多晶硅和电池片的腐蚀和清洗，因此多晶硅生产过程产生的废水中含有高浓度的氟化物。若这些氟化物未经处理直接排放，会造成严重的环境污染，也会对人体健康产生极大危害。
首先，出水要稳定、去除率更高。深度除氟剂出水可以稳定降低至0.5mg/l，氟离子去除率高达99%以上，物理性能也很好。
其次，效率更高。不同除氟剂有效成分含量不同、反应时间也不一样。深度除氟剂作用时间仅有10-15分钟，且反应好，不用吸附法的繁琐流程；有效含量更多，所以深受欢迎。
再者，使用方法简单便捷，性价比高。深度除氟剂除氟剂是使用了强吸附作用以及离子交换左右，在使用过程中工艺流程和操作渐变，经济又实用。
此外，深度除氟剂专用于工业废水除氟，污泥量低、杂质少，不会增加水体cod等污染物，也不会造成管体结垢，处理后出水清澈。
深度除氟剂是一种专为解决低浓度含氟废水而研发的液体药剂，产品可以广泛应用于光伏、半导体、玻璃面板、芯片等多个行业。深度除氟剂共有8款产品，包括固体与液体，可以根据行业水质情况、运输距离远近，为您匹配合适的产品。
关键词：电池 芯片
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